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北京京迈研材料科技有限公司

金属溅射靶材,陶瓷溅射靶材、蒸发镀膜等生产销售

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氧化镓靶材Ga2O3镓靶材Ga磁控溅射靶材
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产品: 浏览次数:0氧化镓靶材Ga2O3镓靶材Ga磁控溅射靶材 
品牌: 京迈研
规格: 根据客户要求定制
单价: 1000.00元/片
最小起订量: 1 片
供货总量: 10 片
发货期限: 自买家付款之日起 21 天内发货
有效期至: 长期有效
最后更新: 2020-07-30 16:11
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详细信息

科研实验专用氧化镓靶材Ga2O3镓靶材Ga磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

氧化镓(Ga2O3)别名是三氧化二镓,是一种宽禁带半导体,Eg=4.9eV;不溶于水,微溶于热酸或碱溶液,易溶于碱金属氢氧化物和稀无机酸;有α,β两种变体,α型为白色菱形六面体,熔点:1900℃(在600℃时转化为β型)。用作高纯分析试剂、用于电子工业半导体材料制备。它是一种透明的氧化物半导体材料,在光电子器件方面有广阔的应用前景 ,被用作于Ga基半导体材料的绝缘层,以及紫外线滤光片。它还可以用作O2化学探测器。
       产品参数

中文名称:氧化镓

中文别名:三氧化二镓

英文名称:Gallium(Iii) Oxide (metals Basis) 

CAS号:12024-21-4

分子式:Ga2O3

分子量:189.46000

精确质量:187.85200

PSA:43.37000

外观与性状:白色靶材

密度:5.88

熔点:1740ºC

折射率:1.92

稳定性:稳定。 与镁不相容。

储存条件:库房通风低温干燥
用作高纯分析试剂、用于电子工业半导体材料制备。 用作高纯分析试剂、半导体材料。

支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
       陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!
       我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。
       注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!
       建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。


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